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华卓精科产物获中国专利银奖

布人:北京华卓精科科技股份有限公司 布时间:众发娱乐app官方下载-01-04 浏览次数:3164

日前,由国家知识产权局与世界知识产权组织配合主办的中国专利奖颁奖大会在北京举行,清华大学联合开区企业北京华卓精科科技股份有限公司申报的“接纳气浮平面电机的硅片台双台交换系统”(ZL200910172949.9)专利,被授予第二十届中国专利银奖。




作为中国自主创新的风向标,中国专利奖是业内公认的中国高级别的专利奖项,至今已乐成举办二十届,该奖项的专业性和权威性获得联合国世界知识产权组织(WIPO)认可。中国专利奖评选不但强调专利技术先进性和专利运用情况,并且更偏重对社会效益和行业的影响力,对入选产物的市园职位和综合实力有着极为严格的要求。清华大学联合华卓精科申报的该项专利能够获奖,是对双方技创新能力和科技结果应用能力的认可。

该明专利提供的气浮平面电机的硅片台双台交换系统,具有两个结构相同的分别事情于预处理惩罚工位和曝光工位的硅片台,接纳平面电机和气浮结构进行驱动和支承。相对付统的单一硅片台驱动系统,大幅缩短了瞄准、硅片形貌丈量等准备事情所花费的时间,提高了事情效率;而相对付统的双硅片台驱动系统,本明专利由于接纳气浮平面电机进行驱动,简化了系统结构,降低了系统负载,提高了控制精度;该明解决了提高硅片台运动速度、加速度和运动定位精度过程中出现的多项技术难题。


光源、曝光光学系统和硅片台合称光刻机中的三大核心子系统。硅片台的速度和精度对付光刻机的产率、辨别率和套刻精度都有重要影响。双硅片台技术作为当今主流光刻机的必备技术,是国产光刻机产物化所必须霸占的核心技术之一。

气浮平面电机专利技术的应用为国产光刻机硅片台实现技术跨越打下了坚实的基础,接纳本专利技术方案的双硅片台样机在精度方面到达了荷兰ASML同一代次产物的技术指标,填补了国内空白,获得了应用单位的好评。

清华大学与华卓精科组成的专利联盟配合构建了专利结构和掩护体系,自2009年以来,以光刻机双硅片台技术为核心,获国内授权明专利131项,美国授权明专利18项,PCT专利申请35项,形成了一个有效的、条理明白的专利结构体系。


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